Column Care

[Clarity HPLC/UHPLC] Column Care Note: 공식 유지보수 가이드

Clarity Oligo-RP, WAX, SAX 컬럼의 고정상별 압력, 온도, 세척 및 보관 가이드

📢 핵심 요약 (Quick Summary)

모든 Clarity 컬럼은 개별 품질 보증서(CQA)와 함께 공급됩니다. 올리고뉴클레오타이드(Oligonucleotide) 분석의 정밀도를 위해 물리적 충격 방지 급격한 압력 변화 최소화가 필수적입니다.

  • 보호 장치: 컬럼 수명 연장을 위해 SecurityGuard™ (가드 컬럼) 사용을 강력히 권장합니다.
  • 이온쌍 시약: TEA, HFIP 등 사용 시 충분한 평형화 및 세척 시간이 필요합니다.

📊 공식 운영 사양 (Technical Specifications)

고정상별 운영 한계 (Phase Specifications)

항목Oligo-RP / XTOligo-MSOligo-WAXOligo-SAX
기재 (Matrix)Organo-Silica
(Fully Porous)
Organo-Silica
(Fully Porous)
Organo-Silica
(Fully Porous)
Polymer
(Non-Porous)
pH 범위1.0 - 12.01.5 - 10.01.0 - 11.02.5 - 12.4
최대 온도60°C60°C60°C5-85°C (pH>11 시 45°C)
압력 제한 (Pressure Limit)1.7 μm: 15,000 psi2.6 μm: 8,700 psi3/5/10 μm: 5,000 psi1.7 μm: 15,000 psi2.6 μm: 8,700 psi5,000 psi5,000 psi
보관 용매ACN:Water (50:50) 또는
MeOH:Water (50:50)
ACN:Water (50:50) 또는
MeOH:Water (50:50)
20mM Tris + 1.0M NaCl
(pH 8)
*장기: +20% Ethanol

🧼 세척 및 관리 절차 (Cleaning & Care)

A. 평형화 및 설치 (Equilibration)

  • 단계적 유속 상승: 컬럼 쇼크 방지를 위해 0.1 mL/min에서 시작하여분당 0.1~0.2 mL씩 점진적으로 올리십시오.
  • 시스템 세정: 라인의 잔여 버퍼/염을 완전히 플러싱한 후 컬럼을 연결하십시오.
  • 이온쌍 시약 (Oligo-RP): TEA, HFIP 등 사용 시 평형 도달에최소 20~50 CV가 소요될 수 있습니다.

B. 오염 제거 세척 (Cleaning)

※ 분석 압력이 상승하거나 피크 모양이 변형되었을 때 수행하십시오.

Oligo-RP / MS / XT

마지막 이동상 조건에서 유기 용매(ACN 등) 비율을 점진적으로 증가.

(예: 95:5 → 50:50 → 5:95 순서)

Oligo-WAX

DI Water (10 CV) → IPA → Methylene Chloride → IPA → DI Water 순으로 세척 (강흡착 불순물 제거).

Oligo-SAX

DI Water → [0.4M NaClO4 (pH 3.5, 30% ACN)] → DI Water 순으로 이온성 오염물 제거.

C. 보관 (Storage)

  • 단기: 이동상(버퍼) 조건에서 저유속 유지 또는 염이 없는 수용액/유기용매 혼합액.
  • 장기: 상단의 공식 보관 용매로 충분히 치환 후, 엔드 캡을 단단히 밀봉.

⚠️ 공식 주의사항 (Important Notes)

  • 엔드피팅 분해 금지: 내부 Frit 교체/분해 시 Warranty 소멸 및 Void 발생.
  • 용매 혼합성 (Miscibility): 고농도 염(Salt) 이동상 사용 중 고농도 유기용매로 직변경 시염 석출(Precipitation)로 컬럼 파손 위험. 반드시 중간 세척 단계 필수.
  • 가드 컬럼 권장: 샘플 불순물로부터 컬럼 보호를 위해 SecurityGuard™ 사용 강력 권장.
  • 역세척 (Back-flush) 주의:- 1.7 μm (UHPLC): 권장하지 않음.
    - 2.6 μm 이상: 평소 유속의 25~50% 수준으로 제한적 수행.
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