Column Care

[Onyx] Monolithic Column Care: 공식 유지보수 가이드

Onyx Monolithic LC 컬럼의 수명 연장, 7단계 세척 및 ID별 관리 지침

1. 개요 (Introduction)

모든 Onyx 컬럼은 개별적인 테스트를 거쳐 품질 보증서(CQA)와 함께 공급됩니다. 모노리스(Monolith) 구조 특유의 고유속·저압력 장점을 유지하기 위해 본 가이드를 준수해 주시기 바랍니다.

📢 핵심 요약 (Quick Summary)

  • 충격 방지: 급격한 유량 변화는 컬럼 구조에 물리적 타격을 줍니다. 펌프 유량은 반드시 단계적으로(Gradually) 증감시키십시오.
  • 오염 방지: 컬럼 수명 연장을 위해 가드 컬럼(SecurityGuard) 사용을 강력히 권장합니다.

📊 공식 운영 사양 (Technical Specifications)

항목상세 사양
최대 압력 (Max Pressure)

4.6 mm ID: > 3,000 psi (206 bar) 시 수명 단축 가능

0.1 mm ID: > 4,500 psi (310 bar) 시 수명 단축 가능

운영 pH 범위2.0 ~ 7.5 (Silica, C8, C18, C18*, HD-C18 공통)
최대 온도권장 최대 45°C (연속 사용 시 수명 영향)
출고 시 보관 용매
  • Onyx Silica: 95:5 n-Heptane : Dioxane
  • Onyx C18 (0.1mm): 80:20 Methanol : Water
  • 기타 C18 상: 60:40 Acetonitrile : Water
전형적 유량4.6 mm ID: 1.0 ~ 9.0 mL/min0.1 mm ID: 1 ~ 3 μL/min

🧼 세척 및 관리 절차 (Cleaning & Care)

1. 설치 및 평형화 (Installation)

공통: HPLC 등급 이상의 용매만 사용하고, 시스템 내 기포를 완전히 제거하십시오.

  • Capillary (0.1 mm ID): 흐름 방향 확인 후, 베이스라인 안정 시까지(최소 10 CV) 컨디셔닝.
  • Analytical (2.0~4.6 mm ID): 100% Acetonitrile로 4 mL/min 유속에서 5분간 세척 후, 분석 조건으로 평형화.

2. 컬럼 재생 세척 (Cleaning - 역상 조건 기준)

오염 물질 제거를 위해 다음 순서대로 각 5 CV (3 mL/min) 흘려주십시오.

1. Water
2. ACN
3. IPA
4. Heptane
5. IPA
6. ACN
7. Water

주의: Heptane 사용 전후에는 반드시 IPA(Isopropanol)를 거쳐 용매 혼화성을 확보해야 합니다.

3. 보관 방법 (Storage)

  • 압력 해소: 유량 정지 후 압력이 70 psi 미만일 때 탈거 (Capillary는 5~15분 대기).
  • 장기 보관: Buffer/Acid 제거 필수 (Water 세척). 이후 100% Acetonitrile 또는 60:40 ACN/Water로 치환 후 밀봉.

⚠️ 공식 주의사항 (Important Notes)

  • 피팅(Fitting) 주의: 튜빙 선단 길이가 컬럼 끝단에서 2 mm를 초과하여 돌출되지 않도록 주의하십시오. (모노리스 소재 손상 및 Dead Volume 방지)
  • 역세척 금지: Normal Phase 및 특정 재생 절차 시 Reverse Flush 금지.
  • 용매 혼화성: 섞이지 않는 용매 교체 시, 반드시 두 용매 모두와 섞이는 중간 용매(예: IPA) 사용 필수.
  • 임의 분해 금지: End-fittings 제거 시 제조사 보증 무효.
  • 가드 컬럼: 입자 오염 차단을 위해 SecurityGuard 사용 (약 500회 주입 시 교체).
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